A fizikai gőzfázisú leválasztás (Physical Vapor Deposition, PVD) technológia fizikai módszerek vákuum alatti alkalmazását jelenti, amelyek során egy anyagforrás (szilárd vagy folyékony) felületét gáznemű atomokká vagy molekulákká párologtatják, vagy részlegesen ionokká ionizálják, majd alacsony nyomású gázon (vagy plazmán) átvezetik. Az eljárás egy olyan technológia, amely egy speciális funkciójú vékonyréteget képez egy hordozó felületén, és a fizikai gőzfázisú leválasztás az egyik fő felületkezelési technológia. A PVD (fizikai gőzfázisú leválasztás) bevonási technológia főként három kategóriába sorolható: vákuumos párologtatásos bevonatolás, vákuumos porlasztásos bevonatolás és vákuumionos bevonatolás.
Termékeinket főként termikus párologtatáshoz és porlasztásos bevonáshoz használják. A gőzfázisú leválasztáshoz használt termékek közé tartoznak a volfrám sodrathuzalok, volfrámcsónakok, molibdéncsónakok és tantálcsónakok. Az elektronsugaras bevonáshoz használt termékek közé tartoznak a katódos volfrámhuzalok, a réztégelyek, a volfrámtégelyek és a molibdén-feldolgozó alkatrészek. A porlasztásos bevonáshoz használt termékek közé tartoznak a titán céltárgyak, a króm céltárgyak és a titán-alumínium céltárgyak.
